上海杨浦区镀金镀银,半导体镀金硅片回收
2025-08-14 06:08:01 386次浏览
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电解退银新工艺 物资再生利用研究所自行设计电解退银设备,以石墨板为阴极,不锈钢滚筒为阳极,滚筒上有许多细孔。柠檬酸钠和亚硫酸钠为电解液,镀银件从滚筒首端进入,从滚筒尾端送出。镀件表层上的银进入电解液,镀件基体完好无损可返回重新电镀使用。银回收率97%—98%,银粉纯度99.9%。
玻纤工业铂的回收 昆明贵金属研究所提出,将Pt、Rh、Au合金废料用王水深解,赶硝转钠盐,过氧化氢还原分离金,离子交换除杂质,水合肼还原得纯Pt、Rh。铂铑产品纯度99%,回收率99%。物质再生利用研究所提出用“白云石一纯碱混合烧结法”从废耐火砖,玻璃渣中回收铂铑的工艺。废耐火砖经球磨、溶融、水碎、酸溶、过滤、滤渣用王水溶解,赶硝,离子交换;水合肼还原,获铂铑产品。铂铑总收率>99%,产品纯度99.95%。该所结合多年生产实践提出选冶联合法回收废耐火砖中铂铑,降低了成本,缩短了工艺,收到较好的效果。
从废催化剂渣中回收钯和铜 其一,物资再生利用研究所用Hcl-H2O2二段逆流浸出,黄药沉淀富集钯与铜分离法从含Pd0.8%、Cu26.2%的废催化剂泥渣中回收铜和钯。回收率Pd>98%,Cu>95%。其二,沈阳矿冶研究所用稀Hcl浸铜,铁置换铜,浸出渣氧化焙烧,稀王水浸出,锌粉置换,粗钯二氯二氨络亚钯法提纯,钯纯度99.99%。回收率>98%,铜收率92%。
上海锦鑫贵金属回收冶炼有限公司(回收热线)是一家规模较大、资金雄厚的贵金属及贵金属废料废水回收公司。面向全国,与各界冶炼厂,矿山厂,电镀厂,电子厂,首饰厂,印刷厂,石油化工等长期合作。
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从物理性质上看,ITO靶材具有以下几个显著特点:高透明度:在可见光范围内(波长400-700纳米),ITO薄膜的透光率可高达90%以上,几乎与普通玻璃相当。优异导电性:其电阻率通常在10⁻⁴欧姆·厘米的量级,远低于大多数透明材料。化学稳定性
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金属材料的硬度检测对应的国家标准: GB/ T230. 1 —2004 《金属洛氏硬度试验第1 部分: 试验方法》 GB/ T231. 1 —2002 《金属布氏硬度试验第1 部分:试验方法》 GB/T4340. 1 —1999 《金属维氏
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从化学角度看,ITO是一种复合氧化物,其性能很大程度上取决于氧化铟和氧化锡的比例。氧化铟提供高透明度,而氧化锡的掺杂则增强了材料的导电性。通过控制这两者的配比,ITO能够在保持光学透明的同时,具备接近金属的导电能力。这种“透明却导电”的特性
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从物理性质上看,ITO靶材具有以下几个显著特点:高透明度:在可见光范围内(波长400-700纳米),ITO薄膜的透光率可高达90%以上,几乎与普通玻璃相当。优异导电性:其电阻率通常在10⁻⁴欧姆·厘米的量级,远低于大多数透明材料。化学稳定性
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从化学角度看,ITO是一种复合氧化物,其性能很大程度上取决于氧化铟和氧化锡的比例。氧化铟提供高透明度,而氧化锡的掺杂则增强了材料的导电性。通过控制这两者的配比,ITO能够在保持光学透明的同时,具备接近金属的导电能力。这种“透明却导电”的特性
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从物理性质上看,ITO靶材具有以下几个显著特点:高透明度:在可见光范围内(波长400-700纳米),ITO薄膜的透光率可高达90%以上,几乎与普通玻璃相当。优异导电性:其电阻率通常在10⁻⁴欧姆·厘米的量级,远低于大多数透明材料。化学稳定性
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随着高科技产业的迅猛发展,稀有金属铟的需求日益增长。铟靶材与ITO靶材作为关键材料,在电子、光电及半导体等领域发挥着重要作用。本文旨在探讨铟靶材与ITO靶材的区别,以及它们在回收技术、环保与经济效益方面的差异。铟靶材主要由金属铟制成,具有质
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铟回收具有重要的环保和经济效益。通过回收废旧靶材中的铟,可以减少对新资源的开采,降低环境污染,实现资源的可持续利用。此外,回收铟还能稳定市场供应,降低生产成本,促进相关产业的可持续发展。ITO(Indium Tin Oxide,氧化铟锡)靶
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尽管制备方法看似成熟,但实际操作中仍有不少难题需要攻克:成分配比的性:氧化锡的掺杂量通常控制在5-10%之间,过高会导致透明度下降,过低则影响导电性。如何在微观尺度上实现均匀混合,是一个技术挑战。靶材密度:低密度靶材在溅射时容易产生颗粒飞溅
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冷等静压法工艺流程:将混合粉末装入柔性模具,在室温下通过高压(100-300兆帕)压制成型,随后在较低温度下烧结固化。优点:工艺相对简单,生产成本较低,适合小批量或定制化生产。缺点:靶材密度和均匀性稍逊,可能在高功率溅射中表现不够稳定。适用
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在实际生产中,ITO靶材通常被加工成圆形或矩形的块状,与溅射设备配合使用。溅射过程中,靶材的质量直接影响薄膜的均匀性、附着力和性能。因此,高质量的ITO靶材不仅是技术要求,更是生产效率和产品可靠性的保障。冷等静压法工艺流程:将混合粉末装入柔
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尽管制备方法看似成熟,但实际操作中仍有不少难题需要攻克:成分配比的性:氧化锡的掺杂量通常控制在5-10%之间,过高会导致透明度下降,过低则影响导电性。如何在微观尺度上实现均匀混合,是一个技术挑战。靶材密度:低密度靶材在溅射时容易产生颗粒飞溅
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制备完成后,ITO靶材在实际应用中还会遇到一些问题:溅射不均匀:如果靶材内部存在微小缺陷或成分偏差,溅射过程中可能出现局部过热,导致薄膜厚度不一致。靶材破裂:在高功率溅射时,靶材承受的热应力可能超出其极限,造成破裂,进而影响生产线的连续性。
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ITO靶材,全称氧化铟锡靶材,是一种专门用于磁控溅射镀膜的材料。氧化铟锡(简称ITO)是一种n型半导体材料,通常由90%的氧化铟(In₂O₃)和10%的氧化锡(SnO₂)组成。这种材料以其的透明度和导电性,成为现代电子工业中不可或缺的组成部
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ITO靶材的核心用途是在磁控溅射工艺中作为“溅射源”。磁控溅射是一种常见的薄膜沉积技术,通过高能离子轰击靶材表面,使靶材原子被“敲击”出来,终沉积在基板上,形成一层均匀的ITO薄膜。这层薄膜厚度通常在几十到几百纳米之间,却能同时实现导电和透
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在实际生产中,ITO靶材通常被加工成圆形或矩形的块状,与溅射设备配合使用。溅射过程中,靶材的质量直接影响薄膜的均匀性、附着力和性能。因此,高质量的ITO靶材不仅是技术要求,更是生产效率和产品可靠性的保障。铟靶材主要由金属铟制成,具有质软、延
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从化学角度看,ITO是一种复合氧化物,其性能很大程度上取决于氧化铟和氧化锡的比例。氧化铟提供高透明度,而氧化锡的掺杂则增强了材料的导电性。通过控制这两者的配比,ITO能够在保持光学透明的同时,具备接近金属的导电能力。这种“透明却导电”的特性
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铟靶材是一种用于制造铟锡氧化物靶材的原料粉末。以下是关于铟靶材的详细解释:主要成分:铟靶材主要由高纯度的铟和锡元素组成,通过特定的制备工艺将两者混合并制成粉末状。主要用途:电子行业:在制造触摸屏、液晶显示器和平板电脑等电子产品的透明导电膜时
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ITO靶材的核心用途是在磁控溅射工艺中作为“溅射源”。磁控溅射是一种常见的薄膜沉积技术,通过高能离子轰击靶材表面,使靶材原子被“敲击”出来,终沉积在基板上,形成一层均匀的ITO薄膜。这层薄膜厚度通常在几十到几百纳米之间,却能同时实现导电和透
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冷等静压法工艺流程:将混合粉末装入柔性模具,在室温下通过高压(100-300兆帕)压制成型,随后在较低温度下烧结固化。优点:工艺相对简单,生产成本较低,适合小批量或定制化生产。缺点:靶材密度和均匀性稍逊,可能在高功率溅射中表现不够稳定。适用