上海松江区Ito钢靶材,银焊条回收
2025-09-15 12:29:01 511次浏览
价 格:面议
黄金
黄金的历史就是人类的文明史。几千年前,当人们发现批天然金粒,黄金就被认为是贵重的材料。由于黄金具有美丽的色泽,非常稳定的化学性质以及良好的机械性能、又是的保值物品,因此,黄金首饰在所有的首饰中占有重要的地位。黄金的消费项目是首饰制作。1970年,世界用于首饰制作的黄金达1062吨,约占当年世界黄金消费总量的77%以上。1978年全世界各行业的黄金加工量是1400吨,而首饰业就用了1000吨。在现代首饰中,黄金可以与不同金属制成合金以便得到所需的各种色彩,如金黄色、水绿色、纯白色、蓝色等等。黄金在地壳中的自然储量9万吨,可开采储量约4.2万吨。2004年,世界黄金的开采量为2430吨,其中,南非341吨,澳大利亚259吨,美国258吨,中国215吨,秘鲁173吨。中国黄金协会表示,2013年中国1—8月黄金产量达270.167吨,较上年同期增加8.2%。
钯首饰
钯这个贵金属是2006年才单独被制作为首饰的,以往都是在铂首饰中作为掺合物,是贵金属首饰家族中又一个新成员。市面上流行的钯首饰主要有Pd950和Pd990。
①Pd950,要求钯的含量不得低于950‰,可标识为Pd950或钯950。
②Pd990,要求钯的含量不得低于990‰,可标识为Pd990或钯990。含钯量不低于750‰和500‰的钯首饰主要用于镶嵌。不允许将钯首饰称作为“钯白金首饰”、“钯铂金首饰”等含混名称。另外,标准规定还要求,贵金属首饰的重量要保留两位小数,单件重量在100克以内的饰品,其重量负偏差不得大于0.01克。
从贴金文物铜回收金 物资再生利用研究所采用氧化焙烧法从废贴金文物铜回收金。废贴金文物铜放入特制焙烧炉内,于8000C恒温氧化焙烧30分钟,取出放入水中,贴金层附在氧化铜鳞片上与铜基体脱离。然后用稀硫酸溶解,溶解渣分离提纯黄金。此法特点焙烧时无污染废气。用此法处理废文物铜300公斤,回收黄金1.5公斤。金回收率>98%,基体铜回收率>95%,副产品硫酸铜可作杀虫剂。
硝酸工厂中回收铂的方法 硝酸生产所用铂、钯、铑三元合金催化剂网,生产中耗损的贵金属大部沉积在氧化炉灰中。昆明贵金属研究所和太原化肥厂合作研究,工艺流程如下:炉灰→铁捕集还原熔炼→氧化熔炼→酸浸→渣煅烧→湿法提纯→铂钯铑三元合金粉。Pt、Pb、Rh直收率83%,总收率98%,产品纯度99.9%。旧铂网回收工艺简单,废网经溶解、提纯、还原后再配料拉丝织网,其回收率>99%。
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经过十多年的发展,我国贵金属深加工产业取得了巨大进步,贵金属深加工产品的种类有了较大幅度增加,相关产品质量有了较大提高,中国有色金属工业协会还成立了贵金属深加工及其应用专业委员会,将全国从事贵金属深加工的企业汇聚在专业委员会下,共同交流技术
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尽管制备方法看似成熟,但实际操作中仍有不少难题需要攻克:成分配比的性:氧化锡的掺杂量通常控制在5-10%之间,过高会导致透明度下降,过低则影响导电性。如何在微观尺度上实现均匀混合,是一个技术挑战。靶材密度:低密度靶材在溅射时容易产生颗粒飞溅
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目前,ITO靶材的制备主要有两种常见方法:热压烧结法和冷等静压法。热压烧结法工艺流程:将氧化铟和氧化锡粉末按比例混合后,放入模具,在高温(1000-1500°C)和高压(几十到几百兆帕)下压制成型。高温使粉末颗粒熔融结合,形成致密的靶材结构
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从化学角度看,ITO是一种复合氧化物,其性能很大程度上取决于氧化铟和氧化锡的比例。氧化铟提供高透明度,而氧化锡的掺杂则增强了材料的导电性。通过控制这两者的配比,ITO能够在保持光学透明的同时,具备接近金属的导电能力。这种“透明却导电”的特性
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尽管制备方法看似成熟,但实际操作中仍有不少难题需要攻克:成分配比的性:氧化锡的掺杂量通常控制在5-10%之间,过高会导致透明度下降,过低则影响导电性。如何在微观尺度上实现均匀混合,是一个技术挑战。靶材密度:低密度靶材在溅射时容易产生颗粒飞溅
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ITO靶材,全称氧化铟锡靶材,是一种专门用于磁控溅射镀膜的材料。氧化铟锡(简称ITO)是一种n型半导体材料,通常由90%的氧化铟(In₂O₃)和10%的氧化锡(SnO₂)组成。这种材料以其的透明度和导电性,成为现代电子工业中不可或缺的组成部
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制备完成后,ITO靶材在实际应用中还会遇到一些问题:溅射不均匀:如果靶材内部存在微小缺陷或成分偏差,溅射过程中可能出现局部过热,导致薄膜厚度不一致。靶材破裂:在高功率溅射时,靶材承受的热应力可能超出其极限,造成破裂,进而影响生产线的连续性。
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目前,ITO靶材的制备主要有两种常见方法:热压烧结法和冷等静压法。热压烧结法工艺流程:将氧化铟和氧化锡粉末按比例混合后,放入模具,在高温(1000-1500°C)和高压(几十到几百兆帕)下压制成型。高温使粉末颗粒熔融结合,形成致密的靶材结构
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从物理性质上看,ITO靶材具有以下几个显著特点:高透明度:在可见光范围内(波长400-700纳米),ITO薄膜的透光率可高达90%以上,几乎与普通玻璃相当。优异导电性:其电阻率通常在10⁻⁴欧姆·厘米的量级,远低于大多数透明材料。化学稳定性
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ITO靶材,全称氧化铟锡靶材,是一种专门用于磁控溅射镀膜的材料。氧化铟锡(简称ITO)是一种n型半导体材料,通常由90%的氧化铟(In₂O₃)和10%的氧化锡(SnO₂)组成。这种材料以其的透明度和导电性,成为现代电子工业中不可或缺的组成部
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ITO靶材的核心用途是在磁控溅射工艺中作为“溅射源”。磁控溅射是一种常见的薄膜沉积技术,通过高能离子轰击靶材表面,使靶材原子被“敲击”出来,终沉积在基板上,形成一层均匀的ITO薄膜。这层薄膜厚度通常在几十到几百纳米之间,却能同时实现导电和透
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尽管制备方法看似成熟,但实际操作中仍有不少难题需要攻克:成分配比的性:氧化锡的掺杂量通常控制在5-10%之间,过高会导致透明度下降,过低则影响导电性。如何在微观尺度上实现均匀混合,是一个技术挑战。靶材密度:低密度靶材在溅射时容易产生颗粒飞溅
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随着高科技产业的迅猛发展,稀有金属铟的需求日益增长。铟靶材与ITO靶材作为关键材料,在电子、光电及半导体等领域发挥着重要作用。本文旨在探讨铟靶材与ITO靶材的区别,以及它们在回收技术、环保与经济效益方面的差异。透明导电薄膜在现代光电行业中具
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从化学角度看,ITO是一种复合氧化物,其性能很大程度上取决于氧化铟和氧化锡的比例。氧化铟提供高透明度,而氧化锡的掺杂则增强了材料的导电性。通过控制这两者的配比,ITO能够在保持光学透明的同时,具备接近金属的导电能力。这种“透明却导电”的特性
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制造ITO靶材是一项技术密集型的工作,涉及从原料配比到成型加工的多个环节。高质量的ITO靶材需要具备高密度、均匀性和稳定性,而这些要求背后隐藏着复杂的工艺和诸多挑战。目前,ITO靶材的制备主要有两种常见方法:热压烧结法和冷等静压法。热压烧结
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ITO靶材,全称氧化铟锡靶材,是一种专门用于磁控溅射镀膜的材料。氧化铟锡(简称ITO)是一种n型半导体材料,通常由90%的氧化铟(In₂O₃)和10%的氧化锡(SnO₂)组成。这种材料以其的透明度和导电性,成为现代电子工业中不可或缺的组成部
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从物理性质上看,ITO靶材具有以下几个显著特点:高透明度:在可见光范围内(波长400-700纳米),ITO薄膜的透光率可高达90%以上,几乎与普通玻璃相当。优异导电性:其电阻率通常在10⁻⁴欧姆·厘米的量级,远低于大多数透明材料。化学稳定性
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铟靶材主要由金属铟制成,具有质软、延展性好和导电性强的特点。作为稀有金属,铟在自然界的含量稀少,但其独特的物理和化学性质使其成为众多高科技产品的核心组件。铟靶材广泛应用于航空航天、电子工业等领域,是制造高性能电子元器件的关键材料。铟回收具有
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ITO靶材,全称氧化铟锡靶材,是一种专门用于磁控溅射镀膜的材料。氧化铟锡(简称ITO)是一种n型半导体材料,通常由90%的氧化铟(In₂O₃)和10%的氧化锡(SnO₂)组成。这种材料以其的透明度和导电性,成为现代电子工业中不可或缺的组成部
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从物理性质上看,ITO靶材具有以下几个显著特点:高透明度:在可见光范围内(波长400-700纳米),ITO薄膜的透光率可高达90%以上,几乎与普通玻璃相当。优异导电性:其电阻率通常在10⁻⁴欧姆·厘米的量级,远低于大多数透明材料。化学稳定性