上海崇明区镀金镀银,银锌电瓶回收
2025-08-15 12:36:01 436次浏览
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从贴金文物铜回收金 物资再生利用研究所采用氧化焙烧法从废贴金文物铜回收金。废贴金文物铜放入特制焙烧炉内,于8000C恒温氧化焙烧30分钟,取出放入水中,贴金层附在氧化铜鳞片上与铜基体脱离。然后用稀硫酸溶解,溶解渣分离提纯黄金。此法特点焙烧时无污染废气。用此法处理废文物铜300公斤,回收黄金1.5公斤。金回收率>98%,基体铜回收率>95%,副产品硫酸铜可作杀虫剂。
玻纤工业铂的回收 昆明贵金属研究所提出,将Pt、Rh、Au合金废料用王水深解,赶硝转钠盐,过氧化氢还原分离金,离子交换除杂质,水合肼还原得纯Pt、Rh。铂铑产品纯度99%,回收率99%。物质再生利用研究所提出用“白云石一纯碱混合烧结法”从废耐火砖,玻璃渣中回收铂铑的工艺。废耐火砖经球磨、溶融、水碎、酸溶、过滤、滤渣用王水溶解,赶硝,离子交换;水合肼还原,获铂铑产品。铂铑总收率>99%,产品纯度99.95%。该所结合多年生产实践提出选冶联合法回收废耐火砖中铂铑,降低了成本,缩短了工艺,收到较好的效果。
从废催化剂中回收铂、钯 其一,溶解贵金属法,昆明贵金属研究所与上海石化总厂采用高温焙烧、盐酸加氧化浸出,锌粉置换,盐酸加氧化剂溶解,固体氯化铵沉铂,锻烧得纯铂,产品铂纯度99.9%,回收率97.8%。已申请中国专利。其二,物资再生利用研究所与核工业部五所合作采用“全熔法”浸出,离子交换吸附铂(或钯),铂的回收率>98%。钯的收率>97%。产品纯度均>99。95%。已申请中国专利,并在数家工厂使用。其三,物资再生利用研究所与扬子石化公司合作研究从废钯碳催化剂中回收钯。废催化剂经烧碳,氯化浸出,氨络合,酸化提纯,后水合肼还原获纯度>99.95%海绵钯,络合渣等废液中少量钯经树脂吸附回收。钯回收率>98%。已申请中国专利。
上海锦鑫贵金属回收冶炼有限公司(回收热线)是一家规模较大、资金雄厚的贵金属及贵金属废料废水回收公司。面向全国,与各界冶炼厂,矿山厂,电镀厂,电子厂,首饰厂,印刷厂,石油化工等长期合作。
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黄金黄金的历史就是人类的文明史。几千年前,当人们发现批天然金粒,黄金就被认为是贵重的材料。由于黄金具有美丽的色泽,非常稳定的化学性质以及良好的机械性能、又是的保值物品,因此,黄金首饰在所有的首饰中占有重要的地位。黄金的消费项目是首饰制作。1
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从化学角度看,ITO是一种复合氧化物,其性能很大程度上取决于氧化铟和氧化锡的比例。氧化铟提供高透明度,而氧化锡的掺杂则增强了材料的导电性。通过控制这两者的配比,ITO能够在保持光学透明的同时,具备接近金属的导电能力。这种“透明却导电”的特性
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ITO靶材,即铟锡氧化物靶材,主要由氧化铟(In₂O₃)和氧化锡(SnO₂)组成,其中氧化铟占比高达90%。ITO靶材因其优异的导电性和高透光性,成为液晶显示器(LCD)、触摸屏及太阳能电池等光电设备的理想材料。其晶体结构稳定,电导率高,确
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冷等静压法工艺流程:将混合粉末装入柔性模具,在室温下通过高压(100-300兆帕)压制成型,随后在较低温度下烧结固化。优点:工艺相对简单,生产成本较低,适合小批量或定制化生产。缺点:靶材密度和均匀性稍逊,可能在高功率溅射中表现不够稳定。适用
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制造ITO靶材是一项技术密集型的工作,涉及从原料配比到成型加工的多个环节。高质量的ITO靶材需要具备高密度、均匀性和稳定性,而这些要求背后隐藏着复杂的工艺和诸多挑战。制备完成后,ITO靶材在实际应用中还会遇到一些问题:溅射不均匀:如果靶材内
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ITO靶材,全称氧化铟锡靶材,是一种专门用于磁控溅射镀膜的材料。氧化铟锡(简称ITO)是一种n型半导体材料,通常由90%的氧化铟(In₂O₃)和10%的氧化锡(SnO₂)组成。这种材料以其的透明度和导电性,成为现代电子工业中不可或缺的组成部
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从物理性质上看,ITO靶材具有以下几个显著特点:高透明度:在可见光范围内(波长400-700纳米),ITO薄膜的透光率可高达90%以上,几乎与普通玻璃相当。优异导电性:其电阻率通常在10⁻⁴欧姆·厘米的量级,远低于大多数透明材料。化学稳定性
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从化学角度看,ITO是一种复合氧化物,其性能很大程度上取决于氧化铟和氧化锡的比例。氧化铟提供高透明度,而氧化锡的掺杂则增强了材料的导电性。通过控制这两者的配比,ITO能够在保持光学透明的同时,具备接近金属的导电能力。这种“透明却导电”的特性
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在实际生产中,ITO靶材通常被加工成圆形或矩形的块状,与溅射设备配合使用。溅射过程中,靶材的质量直接影响薄膜的均匀性、附着力和性能。因此,高质量的ITO靶材不仅是技术要求,更是生产效率和产品可靠性的保障。铟靶材主要由金属铟制成,具有质软、延
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制备完成后,ITO靶材在实际应用中还会遇到一些问题:溅射不均匀:如果靶材内部存在微小缺陷或成分偏差,溅射过程中可能出现局部过热,导致薄膜厚度不一致。靶材破裂:在高功率溅射时,靶材承受的热应力可能超出其极限,造成破裂,进而影响生产线的连续性。
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从化学角度看,ITO是一种复合氧化物,其性能很大程度上取决于氧化铟和氧化锡的比例。氧化铟提供高透明度,而氧化锡的掺杂则增强了材料的导电性。通过控制这两者的配比,ITO能够在保持光学透明的同时,具备接近金属的导电能力。这种“透明却导电”的特性
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从化学角度看,ITO是一种复合氧化物,其性能很大程度上取决于氧化铟和氧化锡的比例。氧化铟提供高透明度,而氧化锡的掺杂则增强了材料的导电性。通过控制这两者的配比,ITO能够在保持光学透明的同时,具备接近金属的导电能力。这种“透明却导电”的特性
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ITO靶材,即铟锡氧化物靶材,主要由氧化铟(In₂O₃)和氧化锡(SnO₂)组成,其中氧化铟占比高达90%。ITO靶材因其优异的导电性和高透光性,成为液晶显示器(LCD)、触摸屏及太阳能电池等光电设备的理想材料。其晶体结构稳定,电导率高,确
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随着高科技产业的迅猛发展,稀有金属铟的需求日益增长。铟靶材与ITO靶材作为关键材料,在电子、光电及半导体等领域发挥着重要作用。本文旨在探讨铟靶材与ITO靶材的区别,以及它们在回收技术、环保与经济效益方面的差异。铟靶材主要由金属铟制成,具有质
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ITO靶材,全称氧化铟锡靶材,是一种专门用于磁控溅射镀膜的材料。氧化铟锡(简称ITO)是一种n型半导体材料,通常由90%的氧化铟(In₂O₃)和10%的氧化锡(SnO₂)组成。这种材料以其的透明度和导电性,成为现代电子工业中不可或缺的组成部
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ITO靶材的核心用途是在磁控溅射工艺中作为“溅射源”。磁控溅射是一种常见的薄膜沉积技术,通过高能离子轰击靶材表面,使靶材原子被“敲击”出来,终沉积在基板上,形成一层均匀的ITO薄膜。这层薄膜厚度通常在几十到几百纳米之间,却能同时实现导电和透
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ITO靶材的核心用途是在磁控溅射工艺中作为“溅射源”。磁控溅射是一种常见的薄膜沉积技术,通过高能离子轰击靶材表面,使靶材原子被“敲击”出来,终沉积在基板上,形成一层均匀的ITO薄膜。这层薄膜厚度通常在几十到几百纳米之间,却能同时实现导电和透
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ITO靶材的核心用途是在磁控溅射工艺中作为“溅射源”。磁控溅射是一种常见的薄膜沉积技术,通过高能离子轰击靶材表面,使靶材原子被“敲击”出来,终沉积在基板上,形成一层均匀的ITO薄膜。这层薄膜厚度通常在几十到几百纳米之间,却能同时实现导电和透
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冷等静压法工艺流程:将混合粉末装入柔性模具,在室温下通过高压(100-300兆帕)压制成型,随后在较低温度下烧结固化。优点:工艺相对简单,生产成本较低,适合小批量或定制化生产。缺点:靶材密度和均匀性稍逊,可能在高功率溅射中表现不够稳定。适用
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冷等静压法工艺流程:将混合粉末装入柔性模具,在室温下通过高压(100-300兆帕)压制成型,随后在较低温度下烧结固化。优点:工艺相对简单,生产成本较低,适合小批量或定制化生产。缺点:靶材密度和均匀性稍逊,可能在高功率溅射中表现不够稳定。适用